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ISTEQ的XWS-X 是專(zhuān)門(mén)為那些需要高強(qiáng)度的、高紫外光源的客戶(hù)開(kāi)發(fā)的。產(chǎn)品特點(diǎn)：?與XWS-65相比，整個(gè)光譜范圍的亮度明顯更高?最大光譜亮度up to 120mW mW/(mm2·sr·nm)?與 XWS-65相比，在250nm以下的紫外波段的亮度提高?輸出配置: Free space or FCU?雙端口配置?高功率配置，輸出亮度up to 200mW/(mm2·sr·nm)

ISTEQ’s XWS-65 光源產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用于各種應(yīng)用，包括光譜學(xué)，高分辨率顯微鏡，薄膜測(cè)量，表面測(cè)量等。這款光源基于最前沿的技術(shù)，已經(jīng)在美國(guó)和歐盟注冊(cè)了自有知識(shí)產(chǎn)權(quán)。主要優(yōu)點(diǎn):? 連續(xù)激光脈沖放電? 寬光譜范圍: 190 – 2500 nm? 高光譜亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)? 高時(shí)空穩(wěn)定性: STD<0.15%? 高使用壽命 (由于electrodeless

ISTEQ’s XWS-30 光源是專(zhuān)門(mén)為那些需要超緊湊、低散熱保持等離子高亮度的寬帶光源的客戶(hù)而開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品特點(diǎn):?一個(gè)緊湊的 “all in one” 的概念光源?非常緊湊: 110x110x120mm, 沒(méi)有額外的冷卻?光譜亮度: up to 40 mW/(mm2·sr·nm)?輸出配置: Free space or FCU?全系統(tǒng)控制通過(guò)USB-RS485適配器筆記本/PC機(jī)

Hyperchromator通過(guò)使用孔徑高達(dá)f/1.5的鏡面來(lái)收集光，利用了點(diǎn)離子體光源的優(yōu)勢(shì)，為了確保最大的光通量而不限制進(jìn)口狹縫。Hyperchromator為需要快速和可調(diào)點(diǎn)光源的應(yīng)用而優(yōu)化。產(chǎn)品特征：?不同的配置可選擇?快速光學(xué)， up to f/1.5 for highest throughput?均勻的光輸出分布?匹配ISTEQ XWS-30?寬調(diào)諧范圍：從DUV到NIR?無(wú)輸入狹縫?

產(chǎn)品特征：?每個(gè)端口參數(shù)相同的雙光束光源?基于XWS-65開(kāi)發(fā)?光譜亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm）?高穩(wěn)定性: STD<0.15%FCU 版本:?SMA or FC 光纖接口?每根光纖輸出功率可達(dá)0.5W

光譜特點(diǎn):?高功率版本:與默認(rèn)XWS-65相比，輸出功率/亮度幾乎翻倍?光譜亮度: up to 90 mW/(mm2·sr·nm)?可在兩種情況下完成：自由空間和FCU配置?FCU版本的光纖輸出功率高達(dá)1W

在現(xiàn)有材料中，具有最大的電光（EO）效應(yīng)的光學(xué)晶體：通過(guò)利用電光（EO）的作用，可以進(jìn)行高速光學(xué)控制。當(dāng)應(yīng)用于光學(xué)掃描儀時(shí)，它可以以傳統(tǒng)技術(shù)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的方式進(jìn)行位移跟蹤。 特點(diǎn)通過(guò)使用高EO效應(yīng)（Kerr效應(yīng)），可以制造小型高速光學(xué)掃描儀（光學(xué)偏光鏡），可變焦距透鏡或高效相位調(diào)制器（光學(xué)開(kāi)關(guān)）。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在電子光學(xué)有機(jī)晶體材料的探索研制中，目前已經(jīng)找到一種晶體---三甲基甲胺晶體[CH2OH]3ONH2簡(jiǎn)稱(chēng)TAM，屬正交晶系，空間群PZ10n其晶胞參數(shù)a=7.786?，b=8.785?，c=8.835?，z=4，熔點(diǎn)為170~172°C。(0k0)有完整的解理面，(020)面2d=8.79?，它與通常作X射線(xiàn)光譜儀的季四醇(簡(jiǎn)稱(chēng)PET)晶體(002)面的2d值(8.76?)相近，其分光波段

KTN偏振器的超高速掃描和任意掃描將實(shí)現(xiàn)新的技術(shù)思想 優(yōu)點(diǎn)/功能：與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，運(yùn)行速度高出100倍以上由于光是被電子轉(zhuǎn)移和外部電場(chǎng)控制，而沒(méi)有任何機(jī)械運(yùn)動(dòng)部件，因此傳統(tǒng)技術(shù)不能支持的高速操作成為了可能。例如，當(dāng)將其應(yīng)用于激光雷達(dá)時(shí)，與傳統(tǒng)技術(shù)相比，將可能實(shí)現(xiàn)更高速度的目標(biāo)識(shí)別。 與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，可以將設(shè)備尺寸減小到小其的1/100因?yàn)樗窃诰w上形成的電極的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)，并且芯片尺寸很小，幾平方毫

通過(guò)電光激活，最適合與生物相關(guān)的快速激光顯微成像。優(yōu)點(diǎn)1. 超快通過(guò)控制KTN晶體的電壓，焦距可以在微秒內(nèi)調(diào)節(jié)，這比傳統(tǒng)的變焦鏡頭快100倍。 聚焦機(jī)制：概念圖焦距偏移性能KTN可變透鏡用作凸透鏡，焦距與所提供電壓的平方成正比。當(dāng)施加1 kV時(shí)，使用實(shí)際介電常數(shù)的透鏡屈光力的典型值為1.0 m -1。 電壓vs焦點(diǎn)偏移

公司介紹：成立于2008年的greateyes，是以德國(guó)柏林洪堡大學(xué)的技術(shù)為基礎(chǔ)，迅速發(fā)展成為國(guó)際知名的先進(jìn)探測(cè)器生產(chǎn)企業(yè)。如今，其科研與工業(yè)客戶(hù)群體已遍布多個(gè)國(guó)家。greateyes開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)并銷(xiāo)售高性能科學(xué)相機(jī)。其作為精確探測(cè)器，被廣泛應(yīng)用于成像與譜學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域。同時(shí)，greateyes公司也生產(chǎn)用于太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的電致熒光與光致熒光檢測(cè)系統(tǒng)。 產(chǎn)品介紹：greateyes基于獨(dú)特的平臺(tái)概念，提供約

公司介紹：成立于2008年的greateyes，是以德國(guó)柏林洪堡大學(xué)的技術(shù)為基礎(chǔ)，迅速發(fā)展成為國(guó)際知名的先進(jìn)探測(cè)器生產(chǎn)企業(yè)。如今，其科研與工業(yè)客戶(hù)群體已遍布多個(gè)國(guó)家。greateyes開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)并銷(xiāo)售高性能科學(xué)相機(jī)。其作為精確探測(cè)器，被廣泛應(yīng)用于成像與譜學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域。同時(shí)，greateyes公司也生產(chǎn)用于太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的電致熒光與光致熒光檢測(cè)系統(tǒng)。 產(chǎn)品介紹：greateyes基于獨(dú)特的平臺(tái)概念，提供用

供應(yīng)日本CSC光學(xué)浮區(qū)爐各種零配件我司有常備易損易耗件1500W鹵素?zé)衄F(xiàn)貨

特征：日本CSC公司成功研制了一種四鏡光學(xué)浮區(qū)爐.熔區(qū)水平的面的溫度分布及其均勻,非常適合于用于生長(zhǎng)高質(zhì)量的單晶.FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC(1) 通過(guò)使用四鏡加熱系統(tǒng)在熔區(qū)水平面獲得了相當(dāng)均勻的溫度分布 (2) 提供多種類(lèi)型的燈,以滿(mǎn)足多種材料的應(yīng)用 鹵素?zé)? 根據(jù)客戶(hù)制備的材料不同,有各種類(lèi)型的燈供客戶(hù)選擇,其中包 括 (150W,300W,5

Feature ：Optical floating zone furnaces （Magnetic Liquid sealed） are designed for keeping the high-quality atmospheric condition by using a magnetic liquid seal kits from high vacuum to high pressure

離子束刻蝕的原理是把氬氣等惰性氣體充入離子源放電室，并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面，撞擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，純屬物理過(guò)程。基本功能1. 三維結(jié)構(gòu)刻蝕：離子束刻蝕設(shè)備可用于刻蝕任何材料的三維結(jié)構(gòu)，刻蝕陡直度優(yōu)于85度，刻蝕精度可做到小于10nm。2. 材料表面清洗：采用考夫曼離子源產(chǎn)生的準(zhǔn)直離子束對(duì)樣

離子束濺射沉積鍍膜原理是利用離子源產(chǎn)生的高能離子束轟擊置于高真空中的靶材，使靶材原子濺射直接沉積在襯底表面上，在襯底表面重新組合形成薄膜，該鍍膜技術(shù)是純物理過(guò)程，無(wú)環(huán)境污染、無(wú)交叉污染?；竟δ?. 可用于在各種襯底材料上濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導(dǎo)體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質(zhì)材料通過(guò)反應(yīng)合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜；2. 與CVD和PVD等其他薄膜技術(shù)相比，具有薄膜材料最廣

反應(yīng)離子刻蝕原理是將通入刻蝕室的工藝氣體分子解離，產(chǎn)生等離子體。一方面由等離子體中的部分活性基團(tuán)與被刻蝕材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，另一方面由于射頻自偏壓作用，等離子體中的正離子對(duì)被刻蝕材料表面進(jìn)行物理轟擊，從而以物理化學(xué)相結(jié)合的方法達(dá)到材料表面刻蝕的目的?；竟δ?. 該設(shè)備采用平板電容放電形式，將通入刻蝕室的工藝氣體分子解離，產(chǎn)生等離子體。一方面由等離子體中的部分活性基團(tuán)與被刻蝕材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)

廣泛應(yīng)用于各種材料結(jié)構(gòu)分析的各個(gè)領(lǐng)域。分析的材料包括：金屬材料、無(wú)機(jī)材料、復(fù)合材料、有機(jī)材料、納米材料、超導(dǎo)材料。可以分析的材料狀態(tài)包括：粉末樣品、塊狀樣品、薄膜樣品、微區(qū)微量樣品。廣泛應(yīng)用于粘土礦物、水泥建材、環(huán)境粉塵、化工制品、藥品、石棉、巖礦、聚合物等研究領(lǐng)域采用強(qiáng)大的多毛細(xì)管平行光束系統(tǒng)，可對(duì)應(yīng)凹凸不同的樣品的分析，擴(kuò)大應(yīng)用范圍。技術(shù)參數(shù)1. X射線(xiàn)發(fā)生器：銅靶或鉬靶，功率50W（工作電壓